确定你需要的是带 µ形中心点标记的还是带><中心点标记的网格。假如你没有说明何种网格，默认网格将是有µ形中心点标记的网格。镀膜如描述的那样，但注意的是，“二氧化硅(SiO2)/一氧化硅(SiO)”镀膜方法是在高真空条件下 蒸发SiO（一氧化硅)所得的结果，因此最终的结果被认为是SiO2和SiO的混合物。不管怎样，对该产品的所有用户，他们感兴趣的不是知道产品的准确组成，而是知道在使用 等离子蚀刻机时，氧不能蚀刻到薄膜或损坏了薄膜。
这些网格主要应用于高温研究，因为在高温条件下，任何聚合物，如Formvar®，在加热过程中都会降解。实际上，SPI Supplies提供 全球最大和最多类型的钼TEM网格供客户选择，因此，假如你喜欢其它模式的网格，它也可能被镀膜，并且价格相同或稍高。告诉我们你想要的，我们将反馈给你定价！
应用于高温研究， SPI Supplies® 牌氮化硅薄膜窗格可能是更好的选择，因为原位加热到1000 C以上时，这种薄膜也不会破裂。
Allred膜是一种以网格为基础的产品，事实上是“支撑膜”，除了支撑功能以外，它们还可用来进行某些“处理”，所得到的电子透明“合成物”，可用于TEM，而不需要进行进一步制备。这种膜还非常坚硬，可以用于FESEM，某些情况下可用于SPM。
这种镀膜网格，是使用一种新技术（专利申请中）制成的。这种新技术可同时制造大量网格， 比一个接一个重复制作要方便得多。这些膜生产出来后，能持续保持张力，这样网格的中心就不会下陷。膜的电子透明性好，深受研究员青睐，特别是为那些需要进行表面处理的研究员省去了昂贵而耗时的样品制备协议。 这种膜能够被制作的非常薄，并且显示出最小限度的残余颗粒结构。
这些膜尚需要进行精确的化学计算，但我们认为是二氧化钛。我们认为这些膜对研究员非常有用，因此希望对这种独特而新颖的产品进行及时介绍。目前，这种镀膜网格只有400目的铜网格，但是 顾客可定制其它目数的网格。二氧化钛镀膜厚约5 nm，电子透明性能好。
这些膜是由上述新技术，使用纯金属制作而成。它们不仅仅是TEM支撑膜，同时也可以进行某些处理，所得到的样品可由TEM检验，而不需要进一步的制备。通常，这些网格对电子化学家非常有用，金属表面可用作惰性电极。Allred贵金属底层厚约2 nm。
我们不仅提供多孔碳和花边碳镀膜网格，而且还供应碳/Formvar多孔网格和碳/Formvar花边网格，应用于某些方面，后者更受欢迎。当然，假如样品正在从溶剂中沉积，Formvar会被溶解，就不能使用这些网格。
还有其它的多孔支持系统可以选择，许多客户，尤其是电子断层成像用户偏爱 Quantifoil®微加工多孔碳网格，它具有一定的优势。
最新的选择是使用 SPI Supplies®多孔氮化硅薄膜窗格。这种网格比普通网格要昂贵得多，但是它们能够出色地完成某些工作（并非所有）。例如，对液体作低温TEM研究，这些网格无与伦比。它们也是支持聚焦离子束（FIB)发射的基本网格。 这些网格是能完成原子力显微镜(AFM)，场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜（TEM)同一区域观察任务的唯一网格。
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