镀膜 如描述的那样，但注意的是，“二氧化硅(SiO2)/一氧化硅(SiO)”镀膜方法是在高真空条件下 蒸发SiO (一氧化硅)所得的结果，因此最终的结果被认为是SiO2和SiO的混合物。不管怎样，对该产品的所有用户，他们感兴趣的不是知道产品的准确组成，而是知道在使用等离子蚀刻机时，氧不能蚀刻到薄膜或损坏了薄膜。
这些网格主要应用于高温研究，因为在高温条件下，任何聚合物，如Formvar®，在加热过程中都会降解。实际上， SPI Supplies提高全球最大和最多类型的钼TEM网格供客户选择，因此，假如你喜欢其它模式的网格，它也可能被镀膜，并且价格相同或稍高。告诉我们你想要的，我们将反馈给你定价！然而，用于原位研究，不要忽视 氮化硅薄膜窗格的优点。
我们不仅提供多孔碳和花边碳镀膜网格，而且还供应碳/Formvar多孔网格和碳/Formvar花边网格，应用于某些方面，后者更受欢迎。当然，假如样品正在从溶剂中沉积，Formvar会被溶解，就不能使用这些网格。
还有其它的多孔支持系统可以选择，许多客户，尤其是电子断层成像用户偏爱 Quantifoil® 微加工多孔碳网格，它具有一定的优势。
最新的选择是使用 SPI Supplies®多孔氮化硅薄膜窗格，这种网格比普通网格要昂贵得多，但是它们能够出色地完成某些工作（并非所有）。例如，对液体作低温TEM研究，这些网格无与伦比。它们也是支持聚焦离子束（FIB)发射的基本网格。 这些网格是能完成原子力显微镜(AFM)，场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜（TEM)同一区域观察任务的唯一网格。
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