镀膜 如描述的那样,但注意的是,“二氧化硅(SiO2)/一氧化硅(SiO)”镀膜方法是在高真空条件下 蒸发SiO (一氧化硅)所得的结果,因此最终的结果被认为是SiO2和SiO的混合物。不管怎样,对该产品的所有用户,他们感兴趣的不是知道产品的准确组成,而是知道在使用等离子蚀刻机时,氧不能蚀刻到薄膜或损坏了薄膜。
这些网格主要应用于高温研究,因为在高温条件下,任何聚合物,如Formvar®,在加热过程中都会降解。实际上, SPI Supplies提高全球最大和最多类型的钼TEM网格供客户选择,因此,假如你喜欢其它模式的网格,它也可能被镀膜,并且价格相同或稍高。告诉我们你想要的,我们将反馈给你定价!然而,用于原位研究,不要忽视 氮化硅薄膜窗格的优点。
我们不仅提供多孔碳和花边碳镀膜网格,而且还供应碳/Formvar多孔网格和碳/Formvar花边网格,应用于某些方面,后者更受欢迎。当然,假如样品正在从溶剂中沉积,Formvar会被溶解,就不能使用这些网格。
还有其它的多孔支持系统可以选择,许多客户,尤其是电子断层成像用户偏爱 Quantifoil® 微加工多孔碳网格,它具有一定的优势。
最新的选择是使用 SPI Supplies®多孔氮化硅薄膜窗格,这种网格比普通网格要昂贵得多,但是它们能够出色地完成某些工作(并非所有)。例如,对液体作低温TEM研究,这些网格无与伦比。它们也是支持聚焦离子束(FIB)发射的基本网格。 这些网格是能完成原子力显微镜(AFM),场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜(TEM)同一区域观察任务的唯一网格。