请相信 µ-中心点标记或><中心点标记 所带来的帮助。如果没有模式可选，可以以µ-中心点标记为默认模式。镀膜就像作图一样，但是需要注意的是，在镀制"二氧化硅(SiO2)/一氧化硅(SiO)"势必引起在高真空环境下 一氧化硅（SiO）蒸发，从而最终导致形成二氧化硅或一氧化硅的化合物。无论如何, 对于该产品的使用者来说, 知道精确的化学成分与否并不重要，重要的是在使用 等离子蚀刻机时，要知道何时不能使用纯氧蚀刻或者其他有损镀膜的情形。
钼网格最初用于高温研究，即用于在加热过程中易分解的任一聚合体，例如Formvar®。事实上, SPI Supplies能够提供 全球范围内多品种透射电镜用钼网格, 因此，如果你更喜欢其他的图案，也可能进行镀制, 并且价格相同或者镀膜更薄。请将您的需求告诉我们，我们会及时回复您一个准确的报价!
高温研究中, 在超过1000C的加热试验中， SPI Supplies® 氮化硅薄膜窗格 将会是您更好的选择，且不会出现薄膜开裂。
如果您是一个必须使用50网孔网格的顾客，这表明您应该最大可能使用正方形网格, 基于上述原因， SPI Supplies® 氮化硅薄膜窗格可以同样引人注目。如果是那样的话, "窗格"尺寸为1mm2并且不会产生“窗格下陷”问题，换句话说, 碳或其他支撑膜的下陷与50网孔网格的网孔一样大。不要忘了即便同样大的孔联合起来也会产生图像漂移数就像放大倍率产生偏差一样(因为上述已经提到的窗格下陷问题)。
我们不仅提供多孔碳或花边碳镀膜网格, 还提供其他用途的多孔碳/Formvar、花边碳/Formvar, 后者更令人满意。当然，如果样品从溶液中沉淀下来，可以溶解Formvar，我们建议不要使用Formvar网格。
多孔支撑膜还有其他的选择。全球许多用户，特别是电子X线断层摄影术更喜欢使用 Quantifoil® 微加工多孔碳网格,该产品具有绝对的优势。
最新选择是 SPI Supplies® 多孔氮化硅薄膜网格。其可能产生一定的滞销, 该产品比常规网格昂贵许多, 但是在某些方面则比其他方法更有效, 对于液体的低温透射电镜（TEM）研究, 该产品远远超过其他产品。它们同样是聚焦离子束显微镜（FIB）离地升空样品最终的网格载体。它也是唯一一种适用于原子力显微镜（AFM）、场发射扫描电镜（FESEM）、透射电镜（TEM）相同观察区域的网格。
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