SPI 等离子蚀刻机

您需要等离子蚀刻机，还是等离子清洁器？请让SPI帮您选择！

如果您需要彻底清除吸附污物的原子和分子层，那么您就需要使用等离子蚀刻机。一般来说，等离子蚀刻机（有时也叫等离子反应器）的工作功率在100瓦以上。而等离子清洁器的工作功率要低于50瓦，有些等离子清洁器的工作功率仅有10瓦。同等离子清洁器相比，大功率的等离子蚀刻机通常用来清除晶片上残留的光刻胶等。而等离子清洁器更适合于从易碎的透射电子显微镜（TEM）样品表面清除所吸附的污物。当然，如何选择并不是千篇一律的，在有些时候蚀刻机和清洁器都可以使用。上面这些纯是经验之谈。如果您还有需要进一步了解的问题，欢迎咨询!

SPI Plasma-Prep II ™ - 各向同性蚀刻（桶形设计）的等离子蚀刻机
Plasma-Prep X - 各向异性蚀刻（平行板状设计）的等离子蚀刻机
SPI Plasma Prep Jr. ™ - 高功率蚀刻的微波等离子蚀刻机

SPI Plasma Prep™ 等离子清洁器－适用于TEM的样品，支架和杆式设备的等离子清洗

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