SPI Plasma Prep™ 等离子清洁器

根据美国专利，使用等离子清洁器清除电子显微镜里的污染，专利号：Patent No 5,510,624

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操作中的SPI Plasma Prep 等离子清洁器

插入杆的SPI Plasma Prep 等离子清洁器.

有“杆保护装置”的SPI Plasma Prep等离子清洁器.

打开的SPI Plasma Prep 等离子清洁器.

SPI Plasma Prep™ 等离子清洁器具有结构紧凑的“长形工作台”形状，它采用“干式等离子体处理”技术清除电子显微镜（TEM）样品支架、样品以及在高真空条件下使用的侧插测角台杆式装备部件上的污染。一般认为，这种技术主要适用于材料科学研究，而不适于生命科学以及聚合物及其它有机材料科学研究。

Dr. Nestor Zaluzec在使用这种等离子清洁器清洗透射电子显微镜（TEM)时，发现这种清洗方法能轻易地清除显微镜中的污染，而正是这些污染的清除大大提高了透射电子显微镜图像的质量和对比度。

根据与Argonne国家实验室签订的许可协议，SPI Supplies 有权生产和销售用于显微镜清洗用途的等离子清洁设备。

特点：

排气控制阀：便于操作人员准确地控制箱内气体排出速率，以避免气流冲击破坏样品；此外，控制阀位于等离子清洁器箱内，可避免误操作。
预设10瓦上限功率, 由于使用氩气对于样品支架、杆或样品无有害影响，10瓦的功率足以清除表面污染，而且这样的工作功率不至于“蚀刻”样品、杆或支架装备。
筒形设计（各向同性等离子清洗） 筒形设计最符合各向同性等离子清洗几何学，它可以有效清洗样品支架的不同部位以及样品和支架装备的结合处。
设计紧凑、高效: 尺寸小,在室内就能批量处理样品。
尺寸: 高10- 1/2" (26.7cm) x 长14-3/4" (37.5cm) x 宽12" (30.5cm)；箱内径4" (10.15cm)，深6" (15.25cm)。
轻便性:不包括分开安装的机械泵，仅重32 lbs (14.5kg)。
RF监控器/安全信号: 当RF放大器与反应器阻抗不匹配时,能发出声音信号。如果不对其进行调整,发电机会自动转换成脉冲模式,以避免RF管过热。

注意事项: 有时我们可能会混淆等离子蚀刻机和等离子清洁器，不知到底该使用哪种仪器。一般来说,等离子蚀刻机工作功率在100瓦以上,而等离子清洁器工作功率能够低至10瓦,不会超过50瓦。例如,假如你想要清除硅胶片上的光刻胶,那么你真正要的是等离子蚀刻机,而不是等离子清洁器,推荐你使用SPI Plasma Prep™ II 产品

低功率的等离子清洁器被设计用来“清扫”物体的顶面，因此，对于清除象透射电子显微镜(TEM)的金属箔片样品污染或样品支架本身的吸附污染来说，低功率的等离子清洁器就能够达到目的了；而在高功率条件下，清除污染对仪器部件有一定的负面影响，例如，高功率下使用氩气能“蚀刻”显微镜台的金属部件，并损坏它。因此，如果你需要等离子清洁器，请仔细阅读上面内容，否则，考虑使用SPI Plasma Prep™ II 等离子蚀刻机。

操作的简便性
首先，插入杆和支架装备到玻璃反应箱内，通入所需的气体（气体的选择取决于被检测的样品），如氧气、氩气或两种气体的混合气；然后，减压到200 µm 并用RF能量(13.56 MHz)作用于箱内，使气体分子激发到高活性的等离子态。一般情况下，使用10瓦功率的等离子清洁器能轻易地清除仪器上的轻微污染，而在大多数情况下，正是这样的轻微污染降低了透射电子显微镜成像的对比度和质量。注意：这种技术主要适用于要求高分辨效果的材料科学研究，一般不适于专业的生命科学研究。我们一直密切注视这种技术在生命科学中的应用。

Plasma Prep™ 等离子清洁器
包括特别设计的前端调节端口，以方便你使用杆和上述的其它操作部件。

	SPI #	价格	库存
110v	11007-AB	$13296.15	No
220/240v	11007-AX	13475.87	Yes
选项
真空计
准确预计清洁时间	11019-AB	978.73	Yes

Leybold 真空泵	10405-AB	4325.00	Yes
油雾滤清器	10410LK-AB	399.67	Yes
Leybold RST16KF可再装填型前置油阱	10407FK-AB	705.53	Yes

安全说明:
推荐使用Fomblin®泵油填充Leybold 2.1立方英尺/分钟的泵

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