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SPI溅射/碳镀膜系统

带有蚀刻模式


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这种内置蚀刻模式的特制系统可首先对样本表面的杂质层进行剥离,而后进行金粉镀覆,并且不会破坏真空系统。本质上,蚀刻模式是颠倒系统的极性,以便实现样本表面的剥离而不是对其镀覆。因为同样的物理学定律会发生在剥离和镀覆两个过程中,在使用此系统时请注意,相比表面镀覆,表面剥离或多或少会存在一些局限性(即对贵金属)。同样,由于同一物理学定律在同种不同低电压溅射镀膜机上起作用,其无法剥离某些材料(如:聚合物或其他有机物)。

蚀刻模式的典型应用:
  • 去除样品表面的金镀膜;
  • 复杂贵金属合金固态相结构显示;
  • 去除厚膜表面金镀膜,更好地展现玻璃粉。

溅射镀膜机蚀刻模式无法使用的场合:

如需对上述镀层进行剥离,请考虑使用SPI Plasma Prep™ II

注意:选配项在订购时确定,内置于溅射镀膜机模块中,无法改型更换。(参考选配项)


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Friday March 12, 2010
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