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SPI-Chem™ 一氧化硅晶片

用于生产SiO2支持膜


英文版




SPI 一氧化硅晶片
化学式: SiO
CAS# 10097-28-6
分子量: 44.07
纯度: 99.99%

SPI-Chem™ 一氧化硅晶片可在相对低的真空蒸发温度下用来制作各种薄膜和复制品。这对于那些热敏感的样品尤其重要。

在电子显微镜方面的应用:
作为透射电子显微镜(TEM)的支持膜,产生的薄膜在电子束中更结实也更柔韧,所以较少出现撕裂和在电子束中失去作用的情况。那些从事碳EDS的研究人员也渴望得到这种镀膜网格。

对于那些不想制作他们自己的SiO/SiO2(SiOx)支持膜的研究人员,简单的解决方法就是从SPI Supplies购买你想要的现成的产品

残余有机物的去除:
很多时候想要去除不需要的含碳物质,从而去除轫致辐射源,增加EDS数据敏感度。另一方面,有机物的清除有助于观察样品里的不同相。另外,还可以使得某些情况下不可能进行的对样品的推测成为可能。



一氧化硅晶片:

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Monday February 06, 2012
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